Index
ورود کاربر
Telegram RSS ارسال به دوستان نسخه چاپی ذخیره خروجی XML خروجی متنی خروجی PDF
کد خبر : 113829
تاریخ انتشار : 6 مهر 1387 0:0
تعداد مشاهدات : 51

محمدعلی شیخ الاسلام مجری طرح

سنتز پوششهای نانوکریستال و آمورف کبالت - فسفر با روش جدید

محققان دانشگاه صنعتی اصفهان موفق به تولید آزمایشگاهی پوششهای نانوکریستال و آمورف کبالت - فسفر به روش رسوبدهی الکتریکی شدند... محققان دانشگاه صنعتی اصفهان موفق به تولید آزمایشگاهی پوششهای نانوکریستال و آمورف کبالت - فسفر به روش رسوبدهی الکتریکی شدند. به گزارش خبرگزاری مهر، محمدعلی شیخ الاسلام مجری طرح گفت: در حال حاضر فراگیرترین پوشش مقاوم به سایش با توجه به عملکرد و قیمت تمام شده پوشش کروم سخت است که به روش رسوبدهی الکتریکی (آبکاری) ایجاد می شود. این پوشش برای قطعات تحت سایش در صنایع مختلف از صنایع غذایی و نساجی گرفته تا صنایع فولاد و نفت به کار می رود. با توجه به نتایج اولیه ای که از عملکرد پوشش های نانوکریستال کبالت- فسفر حاصل شده و نیاز شدید صنعت داخلی به جایگزینی پوشش کروم، تولید و مشخصه یابی این پوشش ها در مقیاس آزمایشگاهی در دستور کار قرار گرفت. وی به نحوه تولید نانو کریستال آمورف کبالت-فسفر اشاره کرد و افزود: پس از بررسی چگالی جریان پوشش دهی بر ویژگی های مختلف پوشش نانوکریستال دریافتیم که با افزایش چگالی جریان، درصد وزنی فسفر پوشش از حدود 2 درصد به حدود یک درصد کاهش و اندازه دانه های پوشش از حدود 10 نانو متر به حدود16 نانو متر افزایش می یابد. شیخ الاسلامی ادامه داد: نتایج ما حاکی از آن است که بر اثر آنیل، اندازه دانه ها و بافت پوشش نانوکریستال Co 1-2 wt%P تغییر چندانی نمی کند اما پوشش آمورف Co 9-11 wt%P به پوششی نانوکریستال تبدیل می شود. همچنین با انجام آنیل، سختی هر دو نوع پوشش به علت تشکیل رسوبات سخت Co2P و CoP افزایش قابل توجهی دارد. مجری طرح با بیان اینکه انجام آمون پلاریزاسیون تافل پوششها در محلول 0.1 M H2SO4 نشان داد که پیش از آنیل پوشش آمورف نسبت به پوشش نانوکریستال مقاومت خوردگی بهتری دارد، اضافه کرد: پس از انجام آنیل مقاومت هر دو پوشش نانوکریستال و آمورف در برابر خوردگی در این محیط کاهش می یابد. آزمون پلاریزاسیون تافل پوششها در محلول 10% NaOH حاکی از تشکیل لایه رویین در این محلول است. وی اظهار داشت: پوشش آمورف نسبت به پوشش نانوکریستال دارای چگالی جریان رویین بیشتری است که با انجام عملیات آنیل کاهش بسیاری می یابد، این در حالی است که میزان کاهش چگالی جریان رویین پوشش نانوکریستال با انجام عملیات آنیل بسیار اندک است. به گفته مجری طرح، جزئیات این پژوهش در مجله Materials Letters (جلد 62، صفحه 3631-3629، سال 2008) منتشر شده است.