Index
ورود کاربر
Telegram RSS ارسال به دوستان نسخه چاپی ذخیره خروجی XML خروجی متنی خروجی PDF
کد خبر : 116034
تاریخ انتشار : 21 آبان 1387 0:0
تعداد مشاهدات : 70

سهراب سنجابی دانش‌آموخته دکتری مهندسی مواد دانشگاه صنعتی شریف

لایه نازک یک نانو ساختار تولید شد

لایه نازک نانوساختار این آلیاژهای حافظه دار بر پایه NiTi، به کمک روش "کند و پاش" و تحت شرایط خلاء UHV، تولید شده است...
دانش آموخته دکتری دانشگاه صنعتی شریف با همکاری محققان دانشگاه کمبریج موفق به ایجاد لایه های نازک نانوساختار NiTi (آلیاژ نیکل تیتانیوم )از عناصر خالص به روش کند و پاش(Sputtering) شد. به گزاش خیرگزاری مهر، سهراب سنجابی - دانش آموخته دکتری مهندسی مواد دانشگاه صنعتی شریف، هدف اصلی از این پژوهش را تولید آلیاژهای حافظه دار نانوساختار از عناصر خالص ذکر کرد و گفت: لایه نازک نانوساختار این آلیاژهای حافظه دار بر پایه NiTi، به کمک روش "کند و پاش" و تحت شرایط خلاء UHV، تولید شده است. وی روش مورد استفاده در این پروژه در مقایسه با روشهای دیگر را بسیار مقرون به صرفه دانست و افزود: در این روش می توان با کنترل پارامترهای دستگاه "کند و پاش" هر گونه ترکیبی از آلیاژهای NiTi را به صورت دوتایی و سه تایی تولید کرد و خواص حافظه داری آلیاژها را در دماهای پایین، دمای اتاق و دمای بالا تا 400˚C به دست آورد. عضو هیئت علمی گروه نانوفناوری دانشگاه تربیت مدرس ادامه داد: در این پژوهش از عناصر خالص Ni، Ti برای رشد لایه نازک NiTi با ترکیبات مختلف و عناصر دیگر چون Hf برای رشد لایه نازک قابل استفاده در دمای بالا (NiTiHf) استفاده شده است. به طور خلاصه با کنترل فشار گاز آرگون، دمای رشد و نسبت توان اعمالی به تارگتها در دستگاه "کند و پاش"، می توان هر گونه آلیاژ حافظه داری با ترکیب خاص و به صورت لایه نازک تولید کرد. به گفته مجری طرح، مشخصه یابی لایه ها توسط دستگاههای XRD، FESEM، TEM، DSC، Electerical Resistivity و AFM انجام گرفته است. سنجابی با بیان اینکه این آلیاژ به صورت لایه نازک در ساخت میکرووالوها، میکروپمها، MEMS، BioMEMS، میکرولوله های هوشمند، نانوروباتها و نانوچنگها کاربرد دارد، افزود: همچنین می توان از آن در صنایع هواپیمایی، مهندسی پزشکی، مهندسی بافت، جراحی قلب آنژیوگرافی و ارتودنسی استفاده کرد.