Index
ورود کاربر
Telegram RSS ارسال به دوستان نسخه چاپی ذخیره خروجی XML خروجی متنی خروجی PDF
کد خبر : 162593
تاریخ انتشار : 29 تیر 1391 0:0
تعداد مشاهدات : 160

مهندس فرخی‌راد، دانشجوی دکتری مهندسی مواد از دانشگاه تربیت مدرس

موفقيت محققان ايراني در حذف آلاینده هاي هوا با فناوري نانو

پژوهشگران دانشگاه تربیت مدرس تهران و صنعتی شریف موفق به ایجاد پوشش های نانوساختار اکسید تیتانیوم برای کاربردهای فتوکاتالیستی با روشی اقتصادی شدند...
علمي و فناوري - فناوري: پژوهشگران دانشگاه تربیت مدرس تهران و صنعتی شریف موفق به ایجاد پوشش های نانوساختار اکسید تیتانیوم برای کاربردهای فتوکاتالیستی با روشی اقتصادی شدند. به گزارش پایگاه اطلاع رسانی دستاوردهای انقلاب اسلامی به نقل از سرويس فناوري ايسنا، نانوساختارهای اکسید تیتانیوم به علت حساسیت به نوری که دارند می توانند به عنوان فتوکاتالیست استفاده شوند و در حذف آلاینده ها از هوا مورد استفاده قرار گیرند. یکی از زمینه های کاربردی این نانوساختارها استفاده ی آنها به صورت پوشش است. در همین راستا روش های مختلفی برای ایجاد پوشش های نانوساختار اکسید تیتانیوم ارائه شده اند که روش های سل-ژل، رسوب شیمیایی و فیزیکی بخار، پاشش پلاسمایی و... از این جمله اند که در نوع خود با هزینه های زیادی همراه هستند. مهندس مرتضی فرخی راد، دانشجوی دکتری مهندسی مواد از دانشگاه تربیت مدرس در خصوص اين طرح گفت: هدف اصلی این تحقیق، ایجاد پوشش های نانوساختار اکسید تیتانیوم به صورت اقتصادی برای کاربردهای فتوکاتالیستی بود. بر همین اساس برای ایجاد پوشش های نانوساختار اکسید تیتانیوم از روش رسوب نشانی الکتروفورتیک استفاده شد که روشی بسیار اقتصادی، ساده و در عین حال کارآمد است. همچنین بررسی مکانیزم فرایند رسوب نشانی الکتروفورتیک از حلال های مختلف (متانول، اتانول و بوتانول) و انتخاب حلال مناسب برای ایجاد پوشش از دیگر اهداف این کار تحقیقاتی بود. وی با اشاره به مراحل این کار تحقیقاتی ادامه داد: در این تحقیق، سوسپانسیون نانوذرات تیتانیا در سه الکل متانول، اتانول و بوتانول تهیه شد و از افزودنی تری اتانول آمین برای افزایش بار سطحی و جلوگیری از آگلومره شدن نانوذرات در سوسپانسیون ها استفاده شد. غلظت بهینه تری اتانول آمین با استفاده از آزمون ته نشینی و اندازه گیری پتانسیل زتای نانوذرات در سوسپانسیون های حاوی غلظت های مختلف تری اتانول آمین تعیین شد. وي افزود: در مرحله بعد، رسوب نشانی الکتروفورتیک از سوسپانسیون های حاوی غلظت بهینه تری اتانول آمین در ولتاژها و زمان های مختلف، اجرا و ریزساختار پوشش ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی شد. پوشش ها در سه دمای مختلف 400، 600 و 800 درجه سانتیگراد تحت شارش گاز آرگون توليد شده و در انتها نیز خاصیت فتوکاتالیستی آنها اندازه گیری شد. به گفته فرخی راد یکی از مهمترین نوآوری های این تحقیق، بهره بردن از اثر نوع حلال در تهیه سوسپانسیون بر روی فرایند رسوب نشانی الکتروفورتیک و خواص پوشش است. فرخی راد در مورد نتایج این کار تحقیقاتی گفت: در این تحقیقات مشخص شد که پوشش های نانوساختار تیتانیای تهیه شده از سوسپانسیون بوتانولی حاوی غلظت بهینه تری اتانول آمین دارای مرغوبترین و یکنواخت ترین ریزساختار هستند که منجر به راندمان بالای فتوکاتالیستی برای آنها می شود. در مورد فرایند رسوب نشانی الکتروفورتیک نیز مشخص شد که افزودنی مورد استفاده می تواند تأثیر زیادی بر روی پایداری سوسپانسیون، مقاومت الکتریکی رسوب و در نتیجه سرعت تشکیل پوشش در طول فرایند و همچنین ریزساختار پوشش داشته باشد. مطالعه دقیقتر مکانیزم های فرایند رسوب نشانی الکتروفورتیک نیز توسط مهندس فرخی راد و دکتر تقی شهرابی از دانشگاه تربیت مدرس انجام شده که به مشاهدات جالبی در رابطه با مکانیزم و سینتیک رسوب نشانی الکتروفورتیک انجامیده و همچنان در حال پیگیری است. نتایج این کار تحقیقاتی که با همکاری دکتر محمد قربانی از دانشگاه صنعتی شریف صورت گرفته در مجله «American Ceramic Society» (جلد 94، شماره 8، آگوست سال 2011) منتشر شده است.